摘要： 通过计算双光束全息干涉多次曝光产生的光强空间分布模拟干涉图案,理论分析了记录平面旋转精度、入射光束的偏振夹角和光束夹角以及光强阈值等参数对光学晶格的影响.归纳出入射光束偏振态改变时,相干干涉产生光学晶格的变化规律,并得出激光全息技术中入射光参数的最佳组合,对激光全息技术制备理想的亚微米单晶结构有一定的理论价值和指导意义.
中图分类号:
陈占林;熊玉卿. 双光束全息干涉法制备二维光子晶体的理论分析[J]. 人工晶体学报, 2018, 47(1): 97-101.
CHEN Zhan-lin;XIONG Yu-qing. Theoretical Analysis for Fabrication of Two-dimensional Photonic Crystals by Dual-beam Holographic Lithography Method[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2018, 47(1): 97-101.
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