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人工晶体学报 ›› 2018, Vol. 47 ›› Issue (12): 2663-2668.

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C、N共掺锐钛矿TiO2的缺陷形成能和能带结构分析

赵林;谢艳招;陈日华;刁勇   

  1. 华侨大学医学院,泉州 362021;福建师范大学闽南科技学院,泉州 362332;福建师范大学闽南科技学院,泉州,362332;华侨大学医学院,泉州,362021
  • 出版日期:2018-12-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(U1405215);福建省教育厅科技类(产学研)资助项目(JAT160671);福建省泉州市科技局资助项目(2016G061)

Analysis on Defect Formation Energy and Band Structure of C, N Co-doped Anatase TiO2

ZHAO Lin;XIE Yan-zhao;CHEN Ri-hua;DIAO Yong   

  • Online:2018-12-15 Published:2021-01-20

摘要: 通过基于密度泛函理论的第一性原理,计算了非金属C、N共掺杂TiO2的缺陷形成能和能带结构,并与实验研究结果进行了比较.研究结果显示,C、N分别取代Ti、O掺杂形式的缺陷形成能高于C、N均取代O掺杂形式,C、N共掺时,C、N分别取代Ti、O更易实现;与纯锐钛矿相TiO2相比,C单掺、N单掺及C、N共掺均能减小TiO2的禁带宽度,但共掺体系比单掺体系的禁带宽度窄化程度更高;共掺模式比单掺模式更有利于TiO2可见光响应能力及可见光催化活性的提高.

关键词: TiO2;共掺杂;第一性原理;缺陷形成能;禁带宽度

中图分类号: