95;Ar+5;H2气氛退火对Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2薄膜形貌和结构的影响

人工晶体学报 ›› 2019, Vol. 48 ›› Issue (12): 2186-2193.

95;Ar+5;H2气氛退火对Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2薄膜形貌和结构的影响

熊芬;姜思宇;吴隽;耿仁杰;郭才胜;祝柏林;姚亚刚;刘静

武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,材料与冶金学院,武汉 430081;武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,材料与冶金学院,武汉 430081;中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,苏州 215123;中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,苏州,215123

出版日期:2019-12-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
中国科学院苏州纳米技术与仿生研究所纳米器件与应用重点实验室项目(15QT02);国家自然科学基金重点项目(51522211)

Effect of Annealing in 95;Ar+5;H2 on the Morphology and Structure of Ag/MoS2 and Ag/BN/MoS2 Thin Films

XIONG Fen;JIANG Si-yu;WU Jun;GENG Ren-jie;GUO Cai-sheng;ZHU Bai-lin;YAO Ya-gang;LIU Jing

Online:2019-12-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用射频(RF)磁控溅射在室温下连续逐层沉积,然后在95;Ar+5;H2混合气氛中进行500 ℃低温退火制备了Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2纳米薄膜,采用拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对其结构、组成和表面形貌进行了研究.结果表明:所制备的纳米膜均匀连续,界面紧密巨清洁.95;Ar+5;H2混合气氛中退火能强烈影响顶部MoS2层的形貌并有效去除MoS2中的杂质氧改善其结晶性、稳定性和结构完整性;顶部MoS2层在沉积态时呈细小颗粒状,退火后呈片层状和颗粒状混合形态,特别是引入BN 层后促进了其向更大更薄的片状转变,巨MoS2薄膜由块状变成类层状结构.另外,电性能表征显示Ag/MoS2具有良好的欧姆接触巨电阻率低,引入BN层使得Ag与BN以及BN与MoS2的界面处产生肖特基势垒从而使Ag/BN/MoS2具有整流特性.

中图分类号:

O484

熊芬;姜思宇;吴隽;耿仁杰;郭才胜;祝柏林;姚亚刚;刘静. 95;Ar+5;H2气氛退火对Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2薄膜形貌和结构的影响[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(12): 2186-2193.

XIONG Fen;JIANG Si-yu;WU Jun;GENG Ren-jie;GUO Cai-sheng;ZHU Bai-lin;YAO Ya-gang;LIU Jing. Effect of Annealing in 95;Ar+5;H2 on the Morphology and Structure of Ag/MoS2 and Ag/BN/MoS2 Thin Films[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2019, 48(12): 2186-2193.

[1]	石博元, 张芩宇, 姜宏, 文峰, 马艳平. 高硼硅玻璃薄膜的磁控溅射沉积及性能研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(12): 2371-2375.
[2]	沈波;杨学林;许福军. 氮化物宽禁带半导体的MOCVD大失配异质外延[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(11): 1953-1969.
[3]	王珣;汪莱;郝智彪;罗毅;孙长征;韩彦军;熊兵;王健;李洪涛. GaN基三维结构生长与器件应用[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(11): 1984-1995.
[4]	王瑞;孙宜华;黄龙;敖来远;方亮;骆秋子. Ti含量对溶胶-凝胶法制备Ti、Ga共掺ZnO薄膜性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(10): 1800-1806.
[5]	王心洋;曹光宇;黄翀. 微波等离子体化学气相沉积设备微波系统的仿真优化与验证[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(10): 1896-1903.
[6]	李若楠;边慧敏;张凯;李朋;李玉平;韩培德. 大面积垂直取向介孔二氧化硅薄膜的制备及性能研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(7): 1236-1241.
[7]	上官旻杰;赵青南;林鸿剑;董玉红;赵杰. Low-E/VO2复合镀膜玻璃的制备与性能研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(4): 716-723.
[8]	景宝堂;钟敏;袁文宾;张宇峰. 气相输运沉积制备化合物薄膜材料的研究进展[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(2): 358-362.
[9]	郭聪;张丹;刘华一;徐海峰;刘雨桐;付跃举. PVDF薄膜铁电性能的调控研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(1): 39-43.
[10]	代清平;吴冬妮;韦俊;吕兵;邓朝勇. 压电层体积分数对BTO基复合薄膜磁电性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(1): 44-49.
[11]	黄奕博;王美涵;文哲;马佳玉;张钧;侯朝霞. 纳米结构WO3/TiO2复合薄膜的制备及应用进展[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(1): 144-151.
[12]	杨松;郭凯鑫;张敏;邓朝勇;王旭. La掺杂BiFeO3薄膜铁电及光学性能研究[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(8): 1445-1450.
[13]	闫刚印. 不同膜厚对SiO2光子晶体形貌及光学性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(7): 1281-1286.
[14]	熊智慧;肖飞;杨辉;张敏;曾体贤. CdSe纳米晶薄膜的光敏特性研究[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(4): 567-571.
[15]	王晓宏;赵青南;常潇;陆文涛;董玉红;赵杰. Si/Ti原子比对TiO2-SiO2复合薄膜亲水性能与摩擦磨损性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(4): 579-586.