[1] |
杨成东, 马文烨, 夏开鹏, 郁智豪, 高晏琦, 苏琳琳. 利用界面调控制备二维有机半导体晶体及其机制研究[J]. 人工晶体学报, 2022, 51(7): 1177-1184. |
[2] |
韩跃斌, 蒲勇, 施建新. 化学气相沉积法碳化硅外延设备技术进展[J]. 人工晶体学报, 2022, 51(7): 1300-1308. |
[3] |
武圆梦, 胡俊杰, 王淼, 易觉民, 张育民, 王建峰, 徐科. Fe掺杂GaN晶体非极性面的光学各向异性研究[J]. 人工晶体学报, 2022, 51(6): 996-1002. |
[4] |
牛科研, 张璇, 崔博垚, 马永健, 唐文博, 魏志鹏, 张宝顺. 单晶金刚石p型和n型掺杂的研究[J]. 人工晶体学报, 2022, 51(5): 841-851. |
[5] |
左芬, 翟章印. n型GaAs欧姆接触电极制备工艺[J]. 人工晶体学报, 2022, 51(4): 606-610. |
[6] |
张序清, 罗昊, 李佳君, 王蓉, 杨德仁, 皮孝东. 半导体碳化硅湿法腐蚀工艺研究[J]. 人工晶体学报, 2022, 51(2): 333-343. |
[7] |
张刚, 付丹扬, 李哲, 黄嘉丽, 王琦琨, 任忠鸣, 吴亮. 籽晶台形状对PVT法同质外延生长氮化铝单晶初始生长的影响[J]. 人工晶体学报, 2022, 51(1): 27-34. |
[8] |
刘晓晨, 郁鑫鑫, 葛新岗, 姜龙, 李义锋, 安晓明, 郭辉. 氮掺杂对氢终端金刚石射频器件特性的影响[J]. 人工晶体学报, 2021, 50(11): 2045-2052. |
[9] |
张琴, 谢泉, 杨文晟, 黄思丽. K、Ti掺杂Mg2Si电子结构和光学性质的第一性原理研究[J]. 人工晶体学报, 2021, 50(9): 1625-1632. |
[10] |
陈松, 毛文蔚, 王卫国. Mg2Sn机械性质及热电输运性能的第一性原理计算[J]. 人工晶体学报, 2021, 50(9): 1633-1639. |
[11] |
李强, 皇甫战彪, 李海宁, 董兴邦, 朱祥, 郝蕴琦, 王征. α相和β相BiNbO4∶Eu3+的荧光性能[J]. 人工晶体学报, 2021, 50(9): 1709-1714. |
[12] |
开翠红, 王蓉, 杨德仁, 皮孝东. 基于碳化硅衬底的宽禁带半导体外延[J]. 人工晶体学报, 2021, 50(9): 1780-1795. |
[13] |
黄泽琛, 蒋冲, 李耳士, 李家伟, 宋娟, 王一, 郭祥, 罗子江, 丁召. GaAs衬底温度对液滴外延法生长In液滴的影响[J]. 人工晶体学报, 2021, 50(8): 1431-1437. |
[14] |
林光伟, 王珊, 张西亚, 高俊伟, 高德东. 直拉单晶炉加热系统的优化设计与分析[J]. 人工晶体学报, 2021, 50(8): 1541-1551. |
[15] |
陈王义博, 徐俞, 曹冰, 徐科. 宽周期掩膜法HVPE侧向外延自支撑GaN的研究[J]. 人工晶体学报, 2021, 50(3): 416-420. |