MPCVD单晶金刚石初始及断续生长界面的表征与分析

人工晶体学报 ›› 2020, Vol. 49 ›› Issue (10): 1765-1769.

MPCVD单晶金刚石初始及断续生长界面的表征与分析

李一村;舒国阳;刘刚;郝晓斌;赵继文;张森;刘康;曹文鑫;代兵;杨磊;朱嘉琦;曹康丽;韩杰才

哈尔滨工业大学航天学院,哈尔滨 150001;上海卫星装备研究所,上海 200240

出版日期:2020-10-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
(国家杰出青年科学基金);(青年科学基金)

Characterization and Analysis of the Initial and Intermittent Growth Interfaces of MPCVD Single Crystal Diamond

LI Yicun;SHU Guoyang;LIU Gang;HAO Xiaobin;ZHAO Jiwen;ZHANG Sen;LIU Kang;CAO Wenxin;DAI Bing;YANG Lei;ZHU Jiaqi;CAO Kangli;HAN Jiecai

Online:2020-10-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术制备的大尺寸、高质量单晶金刚石材料具备卓越的物理化学性能,在珠宝、电子、核与射线探测等消费品、工业和国防科技领域极具应用前景.研究发现在化学气相沉积单晶金刚石生长过程中,在衬底与外延层之间,以及生长中途停止-继续生长的生长层之间出现明显的界面区.本文采用偏光显微镜、拉曼光谱、荧光光谱(PL)等手段对界面区域进行了测试分析,界面区在偏光显微镜下表现出因应力导致的亮区,且荧光光谱(PL)及其线扫描显示该区域的NV色心含量远高于衬底及其前后外延层,表明该界面区具有较高的缺陷和杂质含量.结果表明在生长高品质单晶金刚石初期就应当采取一定手段进行品质调控,并尽量在一个生长周期内完成制备.

中图分类号:

O734

李一村;舒国阳;刘刚;郝晓斌;赵继文;张森;刘康;曹文鑫;代兵;杨磊;朱嘉琦;曹康丽;韩杰才. MPCVD单晶金刚石初始及断续生长界面的表征与分析[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(10): 1765-1769.

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