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人工晶体学报 ›› 2020, Vol. 49 ›› Issue (6): 979-989.

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MPCVD单晶金刚石高速率和高品质生长研究进展

李一村;郝晓斌;代兵;舒国阳;赵继文;张森;刘雪冬;王伟华;刘康;曹文鑫;杨磊;朱嘉琦;韩杰才   

  1. 哈尔滨工业大学航天学院,哈尔滨,150001
  • 出版日期:2020-06-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家杰出青年科学基金(51625201)

Research Progress on High Rate and High Quality Growth of MPCVD Single Crystal Diamond

LI Yicun;HAO Xiaobin;DAI Bing;SHU Guoyang;ZHAO Jiwen;ZHANG Sen;LIU Xuedong;WANG Weihua;LIU Kang;CAO Wenxin;YANG Lei;ZHU Jiaqi;HAN Jiecai   

  • Online:2020-06-15 Published:2021-01-20

摘要: 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术被认为是制备大尺寸高品质单晶金刚石的理想手段之一.然而其较低的生长速率(~10μm/h)以及较高的缺陷密度(103~107 cm-2)是阻碍MPCVD单晶金刚石应用的主要因素,经过国内外研究团队数十年的不懈努力,在高速率生长和高品质生长两个方面都取得了众多成果.但是除此之外还需解决高速率与高品质生长相统一的问题,才能实现MPCVD单晶金刚石的高端应用价值.

关键词: MPCVD单晶金刚石;高速率;高品质

中图分类号: