欢迎访问《人工晶体学报》官方网站,今天是 分享到:

人工晶体学报 ›› 2004, Vol. 33 ›› Issue (5): 817-819.

• • 上一篇    下一篇

0.87Na0.5Bi0.5TiO3-0.13PbTiO3薄膜的MOSD+Dipping制备

王卓;杨长红;王民;房昌水   

  1. 山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100
  • 出版日期:2004-10-15 发布日期:2021-01-20

Preparation of 0.87 Na0.5Bi0.5TiO3-0.13PbTiO3 Thin Films by MOSD+Dipping Method

  • Online:2004-10-15 Published:2021-01-20

摘要: 采用MOSD+Dipping方法在P型Si(111)衬底上制备了0.87Na0.5Bi0.5TiO3-0.13PbTiO3薄膜.用X射线衍射技术研究了薄膜的结构和结晶性.用原子力显微镜分析了薄膜的表面形貌.同时还研究了薄膜的存储性能.

关键词: MOSD+Dipping法;C-V曲线;铁电薄膜

中图分类号: