中频对向靶磁控溅射制备超薄ZnO薄膜及其在太阳电池中的应用

人工晶体学报 ›› 2007, Vol. 36 ›› Issue (3): 584-588.

中频对向靶磁控溅射制备超薄ZnO薄膜及其在太阳电池中的应用

李微;孙云;敖建平;何青;刘芳芳;李凤岩

南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071

出版日期:2007-06-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家高技术研究发展计划(863计划)(2004AA513020)

Fabrication of ZnO Thin Films by MF Magnetron Sputtering with Facing Targets and Its Application in Solar Cell

LI Wei;SUN Yun;AO Jian-ping;HE Qing;LIU Fang-fang;LI Feng-yan

Online:2007-06-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 中频溅射制备ZnO薄膜可改善射频磁控溅射方式中沉积速率过慢的缺点.对于多层薄膜的制备,对向靶的设计可使样品避开等离子体直接轰击,减少基底薄膜的损伤.本文采用这项技术制备厚度约为50nm的ZnO薄膜,通过调整工作压强、溅射功率、氧氩比等工艺条件,制备出均匀致密,结晶质量高,电阻率在102～103Ω·cm之间,可见光区透过率达到90;的ZnO薄膜.将其应用到CIGS太阳电池中发现,具有50nm厚度的ZnO层的CIGS太阳电池的性能较无ZnO层的太阳电池都有了很大提高.

中图分类号:

O782

李微;孙云;敖建平;何青;刘芳芳;李凤岩. 中频对向靶磁控溅射制备超薄ZnO薄膜及其在太阳电池中的应用[J]. 人工晶体学报, 2007, 36(3): 584-588.

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