热处理对Ni0.7Zn0.3O薄膜结构及缺陷荧光特性的影响

人工晶体学报 ›› 2007, Vol. 36 ›› Issue (3): 608-611.

热处理对Ni0.7Zn0.3O薄膜结构及缺陷荧光特性的影响

林方婷;李娜;马学鸣;石旺舟

华东师范大学物理系光谱学与波谱学教育部重点实验室,上海,200062

出版日期:2007-06-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
上海市纳米科技专项基金(0652nm023)

Influence of Annealing on Microstructure and Defect-related Photoluminescence of Ni0.7Zn0.3O Thin Film

LIN Fang-ting;LI Na;MA Xue-ming;SHI Wang-zhou

Online:2007-06-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用脉冲激光沉积法在Si(100)衬底上制备了Ni0.7Zn0.3O薄膜,通过热处理改变薄膜的缺陷状态,并利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和荧光光谱仪表征薄膜的晶体结构、表面形貌和缺陷发光特性.结果表明:沉积态薄膜为立方结构的Ni0.7Zn0.3O单相,且沿着(200)面高度取向生长.经过热处理后,薄膜形成ZnO和Ni0.7Zn0.3O两相共存的镶嵌结构.样品具有非常丰富的室温荧光光谱,其发光峰主要来自Ni0.7Zn0.3O的缺陷能级跃迁,多缺陷能级导致了多发光峰的荧光光谱.热处理引起薄膜中缺陷的种类和浓度发生变化,严重影响其发光特性.

中图分类号:

O484

林方婷;李娜;马学鸣;石旺舟. 热处理对Ni0.7Zn0.3O薄膜结构及缺陷荧光特性的影响[J]. 人工晶体学报, 2007, 36(3): 608-611.

LIN Fang-ting;LI Na;MA Xue-ming;SHI Wang-zhou. Influence of Annealing on Microstructure and Defect-related Photoluminescence of Ni0.7Zn0.3O Thin Film[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2007, 36(3): 608-611.

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