
人工晶体学报 ›› 2008, Vol. 37 ›› Issue (3): 538-542.
于晓艳;荣宪伟;关承祥;赵朝中
出版日期:2008-06-15
发布日期:2021-01-20
基金资助:YU Xiao-yan;RONG Xian-wei;GUAN Cheng-xiang;ZHAO Chao-zhong
Online:2008-06-15
Published:2021-01-20
摘要: 在LiNbO3晶体中掺进0.1wt;CeO2和0.03wt;Fe2O3以Czochralski技术生长不同Li/Nb比(0.94、1.20、1.40)Ce:Fe:LiNbO3晶体,其中Li/Nb=1.40的Ce:Fe:LiNbO3晶体是化学计量比.测试了不同Li/Nb比Ce:Fe:LiNbO3晶体抗光损伤能力,得到随着Li/Nb比的增加,晶体的抗光损伤能力增加.研究了晶体抗光损伤能力增强的机理.随着Li/Nb比的增加,晶体的响应速度和光折变灵敏度增加.测试不同Li/Nb比Ce:Fe:LiNbO3晶体位相共轭效应,利用产生的位相共轭光波消除图像的位相共轭畸变.利用Li/Nb=1.40的Ce:Fe:LiNbO3晶体做记录介质,Li/Nb=1.20的Ce:Fe:LiNbO3晶体作位相共轭镜进行全息关联存储实验.实验结果表明,存储系统具有实时处理,成像质量好,信噪比高和可反复使用的优点.
中图分类号:
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