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人工晶体学报 ›› 2009, Vol. 38 ›› Issue (4): 813-817.

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非真空密闭条件下的Ce3+: LiYF4晶体生长

徐方;方奇术;王苏静;武安华;蒋成勇;陈红兵   

  1. 宁波大学材料科学与工程研究所,宁波市新型功能材料及其制备科学国家重点实验室培育基地,宁波,315211;中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050
  • 出版日期:2009-08-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    宁波市自然科学基金(2009A610012);浙江省高校中青年学科带头人项目;宁波大学王宽诚幸福基金

Growth of Ce3+: LiYF4 Crystal under Non-vacuum Closed Atmosphere

XU Fang;FANG Qi-shu;WANG Su-jing;WU An-hua;JIANG Cheng-yong;CHEN Hong-bing   

  • Online:2009-08-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文报道了氟化物激光晶体Ce3+: LiYF4的坩埚下降法生长工艺.以高纯氟化物LiF、YF3和CeF3为初始试剂,按照LiF: YF3: CeF3 = 51.5: 47.5: 1.0的物质的量比配料,经高温氟化处理合成严格无水的Ce3+: LiYF4多晶料.将Ce3+: LiYF4多晶料密封于铂坩埚中,添加少量聚四氟乙烯粉末,可避免氟化物熔体的氧化与挥发,从而在非真空条件下实现Ce3+: LiYF4晶体的坩埚下降法生长,成功生长出尺寸达28 mm×70 mm的无色透明完整单晶.采用XRD、差热/热重分析、透射光谱和荧光光谱对Ce3+: LiYF4单晶基本性质的进行表征.结果表明,该晶体在320~3000 nm区域内的光透过率达90;以上,晶体在297 nm处有一强吸收峰;荧光光谱显示晶体在紫外光区310 nm、325 nm处有两个强发射峰.

关键词: 激光晶体;Ce3+:LiYF4;氟化处理;晶体生长;坩埚下降法

中图分类号: