nc-Si:(Al2O3+SiO2)复合膜的制备及其热电特性

人工晶体学报 ›› 2010, Vol. 39 ›› Issue (6): 1465-1469.

nc-Si:(Al2O3+SiO2)复合膜的制备及其热电特性

郝培风;高斐;苗锟;刘立慧;孙杰;权乃承;刘晓静;张君善

陕西师范大学物理与信息技术学院,西安,710062

出版日期:2010-12-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
香港何崇?拘履茉椿?中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(GK000902052);陕西师范大学勤助科研创新基金(QZYB10032)

Preparation and Thermoelectric Properties of nc-Si:(Al2O3+SiO2) Composite Film

HAO Pei-feng;GAO Fei;Miao Kun;LIU Li-hui;SUN Jie;QUAN Nai-cheng;LIU Xiao-jing;ZHANG Jun-shan

Online:2010-12-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用真空热蒸发技术在石英玻璃衬底上蒸镀约400 nm的铝膜,并在空气中580 ℃的条件下退火1 h.在退火过程中Al与石英中的SiO2反应形成纳米硅nc-Si: (Al2O3+SiO2)复合膜.利用X射线衍射(XRD)、拉曼散射(Raman)及扫描电镜(SEM)等方法研究了薄膜的结构特性.测得膜厚约为760 nm,估算出薄膜中纳米硅(nc-Si)的平均尺寸约为25 nm.实验发现该nc-Si: (Al2O3+SiO2)复合膜有热电特性,研究了其电阻率及Seebeck系数随温度(293 ～413 K)的变化关系,在293 K和413 K该薄膜的Seebeck系数分别约为-624 μV/K和-225 μV/K.

中图分类号:

O472+.7

郝培风;高斐;苗锟;刘立慧;孙杰;权乃承;刘晓静;张君善. nc-Si:(Al2O3+SiO2)复合膜的制备及其热电特性[J]. 人工晶体学报, 2010, 39(6): 1465-1469.

HAO Pei-feng;GAO Fei;Miao Kun;LIU Li-hui;SUN Jie;QUAN Nai-cheng;LIU Xiao-jing;ZHANG Jun-shan. Preparation and Thermoelectric Properties of nc-Si:(Al2O3+SiO2) Composite Film[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2010, 39(6): 1465-1469.