衬底温度对Cu2O薄膜结构和性能的影响

人工晶体学报 ›› 2012, Vol. 41 ›› Issue (2): 457-460.

衬底温度对Cu2O薄膜结构和性能的影响

董国波;张铭;王玫;李英姿;李朝荣;李华;黄安平;严辉

北京航空航天大学物理科学与核能工程学院,北京,100191;北京工业大学材料科学与工程学院,北京,100124

出版日期:2012-04-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(51172009;51172013)

Effect of Substrate Temperature on the Structure and Properties of Cu2O Thin Films

DONG Guo-bo;ZHANG Ming;WANG Mei;LI Ying-zi;LI Chao-rong;LI Hua;HUANG An-ping;YAN Hui

Online:2012-04-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用射频磁控溅射技术在石英衬底上制备了Cu2O薄膜.系统研究了衬底温度对薄膜结构、光学和电学性能的影响.XRD的结果显示,在所有衬底温度条件下均可得到单相的Cu2O结构,而且随着衬底温度由500 K升至800 K,薄膜表现出(111)择优取向的生长特点.电学和光学测试结果表明,室温电导率和光学带隙随着衬底温度的升高而增加,800 K制备的薄膜的带隙值最高约为2.58 eV.

中图分类号:

O484

董国波;张铭;王玫;李英姿;李朝荣;李华;黄安平;严辉. 衬底温度对Cu2O薄膜结构和性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2012, 41(2): 457-460.

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