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人工晶体学报 ›› 2013, Vol. 42 ›› Issue (7): 1299-1304.

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化学浴法制备CdS薄膜及其光电性能研究

焦静;沈鸿烈;王威;江丰   

  1. 南京航空航天大学材料科学与技术学院,南京,210016
  • 出版日期:2013-07-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(61176062);江苏高校优势学科建设工程资助项目

Study on Preparation and Photoelectric Properties of CdS Thin Films by Chemical Bath Deposition

JIAO Jing;SHEN Hong-lie;WANG Wei;JIANG Feng   

  • Online:2013-07-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文用氯化镉、氯化铵、硫脲和氨水的溶液体系采用化学浴沉积法合成CdS薄膜,制备出均匀、致密的CdS薄膜,通过XRD、SEM、EDS、紫外可见吸收光谱等表征手段研究了CdS薄膜的晶体结构,表面形貌,元素比例和光电性能.发现在不同水浴温度下都成功制备了CdS薄膜,其中75℃制备的CdS薄膜最为均匀致密且其XRD衍射峰强度最强,光吸收边在500 nm附近,禁带宽度大约为2.52 eV.这些CdS薄膜的光电响应大,暗态及光照下的电导率分别为1×10-4S·cm-1和1.04×10-2 S · cm-1.用它们制备的CdS/CZTS异质结太阳电池具有明显的光伏效应.

关键词: 化学浴沉积法;CdS薄膜;光吸收;光电响应;电导率

中图分类号: