铝膜溅射功率对铝诱导CdZnTe薄膜结构及性能影响

人工晶体学报 ›› 2014, Vol. 43 ›› Issue (6): 1515-1519.

铝膜溅射功率对铝诱导CdZnTe薄膜结构及性能影响

曾冬梅;慕银银;潘松海;刘皖;陈飞

北京石油化工学院材料科学与工程学院,北京,102617;北京化工大学材料科学与工程学院,北京,100029

出版日期:2014-06-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(51002012);北京市教委科研计划资助项目

Effect of Aluminum Sputtering Power on CdZnTe Films by Al-induced Crystallization

ZENG Dong-mei;MU Yin-yin;PAN Song-hai;LIU Wan;CHEN Fei

Online:2014-06-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用磁控溅射法制备CdZnTe先驱薄膜/金属Al膜的层叠结构,利用铝诱导技术制备CdZnTe薄膜.通过原子力显微镜、X射线衍射、Raman光谱仪和半导体特性分析系统,研究了铝膜溅射功率对铝诱导CdZnTe薄膜结构及性能的影响.结果表明:随着铝膜溅射功率的增加,铝诱导CdZnTe薄膜表面的薄膜结晶质量、晶粒尺寸和薄膜电阻率先增大后减小.铝诱导晶化的效果与铝膜溅射功率有关,当铝膜溅射功率达到100 W,CdZnTe薄膜的晶化诱导效果最显著,薄膜结晶质量最好,晶粒尺寸最大.

中图分类号:

TN304.2+6

曾冬梅;慕银银;潘松海;刘皖;陈飞. 铝膜溅射功率对铝诱导CdZnTe薄膜结构及性能影响[J]. 人工晶体学报, 2014, 43(6): 1515-1519.

ZENG Dong-mei;MU Yin-yin;PAN Song-hai;LIU Wan;CHEN Fei. Effect of Aluminum Sputtering Power on CdZnTe Films by Al-induced Crystallization[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2014, 43(6): 1515-1519.