退火温度对Li∶ZnO薄膜紫外发射性能影响

人工晶体学报 ›› 2014, Vol. 43 ›› Issue (9): 2329-2334.

退火温度对Li∶ZnO薄膜紫外发射性能影响

贾相华;尹龙承;姜宏伟;朱瑞华;王丹;郑友进

牡丹江师范学院超硬材料重点实验室,牡丹江,157012

出版日期:2014-09-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
黑龙江省自然科学基金(E201341);牡丹江市科技攻关计划(G2013e1233);牡丹江师范学院科学技术研究计划(QC200904)

Influence of Annealing Temperature on Ultraviolet Emission Properties of Li∶ZnO Thin Films

JIA Xiang-hua;YIN Long-cheng;JIANG Hong-wei;ZHU Rui-hua;WANG Dan;ZHENG You-jin

Online:2014-09-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 利用溶胶-凝胶法在Si衬底上制备不同退火温度的Li∶ZnO薄膜.借助X射线衍射(XRD)、X射线光电子谱(XPS)、扫描电镜(SEM)和光致发光(PL)谱研究样品结晶质量、成分、表面形貌和发光特性.结果表明:所有样品均高度c轴择优取向生长;随退火温度升高,样品结晶性变好,紫外发射增强.LiOH在退火温度超过700℃分解,使Li、H进入到ZnO晶格,在ZnO薄膜中形成LiZn-H复合缺陷,这种复合缺陷使H被困在ZnO薄膜中,形成H施主,显著提高ZnO薄膜紫外发光强度,抑制ZnO薄膜绿光发射.

中图分类号:

贾相华;尹龙承;姜宏伟;朱瑞华;王丹;郑友进. 退火温度对Li∶ZnO薄膜紫外发射性能影响[J]. 人工晶体学报, 2014, 43(9): 2329-2334.

JIA Xiang-hua;YIN Long-cheng;JIANG Hong-wei;ZHU Rui-hua;WANG Dan;ZHENG You-jin. Influence of Annealing Temperature on Ultraviolet Emission Properties of Li∶ZnO Thin Films[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2014, 43(9): 2329-2334.