微波等离子体下GaN的分解与纳米金刚石膜的沉积

人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (1): 7-12.

微波等离子体下GaN的分解与纳米金刚石膜的沉积

田寒梅;刘金龙;陈良贤;魏俊俊;黑立富;李成明

北京科技大学新材料技术研究院,北京,100083

出版日期:2015-01-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(51272024);中国博士后科学基金(2014M550022);中央高校基本科研业务费(FRF-TP-14-042A1);国家自然科学基金(51402013)

Decomposition of GaN and Direct Deposition of Nano-diamond Film in Microwave Plasma

TIAN Han-mei;LIU Jin-long;CHEN Liang-xian;WEI Jun-jun;HEI Li-fu;LI Cheng-ming

Online:2015-01-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用微波等离子体化学气相沉积(microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)技术系统地研究了GaN的分解机制.结果表明微波等离子体富氢环境促进了GaN的分解反应,分解过程由表面缺陷开始,向侧面扩展,最后沿氮极性面进行;氢等离子体中通入少量氮气能够显著抑制GaN的分解,在此基础上采用两步生长法成功实现在GaN上纳米金刚石膜的直接沉积.

中图分类号:

TG174.4
TB34

田寒梅;刘金龙;陈良贤;魏俊俊;黑立富;李成明. 微波等离子体下GaN的分解与纳米金刚石膜的沉积[J]. 人工晶体学报, 2015, 44(1): 7-12.

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