晶体硅太阳能电池绒面的反应离子刻蚀制备研究

人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (3): 571-575.

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晶体硅太阳能电池绒面的反应离子刻蚀制备研究

靳聪慧;史振亮;于威;丛日东;张瑜;宋登元;傅广生

河北大学物理科学与技术学院,保定,071002

出版日期:2015-03-15 发布日期:2021-01-20

Fabrication of Crystalline Silicon Surface Texture for Solar Cells by Reactive Ion Etching

JIN Cong-hui;SHI Zhen-liang;YU Wei;CONG Ri-dong;ZHANG Yu;SONG Deng-yuan;FU Guang-sheng

Online:2015-03-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 以SF6和O2为反应气体,采用反应离子刻蚀(RIE)技术,在单晶硅衬底表面制备了锥型绒面结构,系统地研究了关键刻蚀条件对RIE晶硅表面制绒的影响.结果表明,随着反应气压增大,晶体硅表面锥型结构呈现分布均匀和高度增加的趋势,但过高气压下锥型微结构向脊型转变直至消失.在反应气体中掺入CH4,晶体硅表面锥型结构高度增加,表面平均反射率下降到5.63;.该结果可解释为:气压增大导致的F原子刻蚀的增强有利于锥体结构高度增加,小尺寸的SiOyFx聚合物掩模的完全刻蚀使锥型结构的尺寸逐渐均匀,而过高的气压下,掩模及晶体硅的过量刻蚀导致微结构只剩锥体底部的脊型凸起.CH4掺入导致CHx聚合物的掩模和粒子轰击效应均有增强,更有利于高纵横比锥型微结构的形成.

中图分类号:

TM914.4

靳聪慧;史振亮;于威;丛日东;张瑜;宋登元;傅广生. 晶体硅太阳能电池绒面的反应离子刻蚀制备研究[J]. 人工晶体学报, 2015, 44(3): 571-575.

JIN Cong-hui;SHI Zhen-liang;YU Wei;CONG Ri-dong;ZHANG Yu;SONG Deng-yuan;FU Guang-sheng. Fabrication of Crystalline Silicon Surface Texture for Solar Cells by Reactive Ion Etching[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2015, 44(3): 571-575.

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