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人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (3): 728-733.

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晶体的定偏心平面CMP均匀性研究

王志斌;吴传超;安永泉;赵同林;解琨阳;刘顺   

  1. 山西省光电信息与仪器工程技术研究中心,太原030051;中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室,太原030051;山西省光电信息与仪器工程技术研究中心,太原,030051
  • 出版日期:2015-03-15 发布日期:2021-01-20

Study on the Uniformity of Certain Eccentricity Surface Chemical Mechanical Polishing of Crystal

WANG Zhi-bin;WU Chuan-chao;AN Yong-quan;ZHAO Tong-lin;XIE Kun-yang;LIU Shun   

  • Online:2015-03-15 Published:2021-01-20

摘要: 晶体的化学机械抛光(CMP)加工中存在工件的表面平整度差的问题.晶体平整度差,两块晶体在真空压合的过程中就会导致晶体被压裂甚至压碎,晶体表面出现任何微小的缺陷都会造成压合的失败,晶体的压合对于晶体表面的平整度要求非常高,因此本文针对这一现象提出一种定偏心平面CMP方式,通过此种被动驱动式平面CMP方法,合理选择CMP及偏心距的参数,使得被加工晶体(ZnSe)的表面粗糙度值达到0.846 nm,平面面形误差小于1.178 μm.

关键词: 定偏心;CMP;轨迹方程;均匀性

中图分类号: