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人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (10): 2708-2713.

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KDP晶体离子束抛光温度场模拟与工艺参数优化

邓鸿飞;袁征;解旭辉;周林;胡皓   

  1. 国防科学技术大学机电工程与自动化学院,长沙,410073;重庆通信学院,重庆,400035
  • 出版日期:2015-10-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(51405503)

Simulation Research on Temperature Field of KDP Crystal and Technical Parameters Optimization in Ion Beam Figuring

DENG Hong-fei;YUAN Zheng;XIE Xu-hui;ZHOU Lin;HU Hao   

  • Online:2015-10-15 Published:2021-01-20

摘要: 为解决离子束加工热效应这一棘手问题,必须了解离子束加工过程中光学元件的温度场分布,以期优化工艺参数来降低离子束加工过程中光学元件的温度.本文基于ANSYS参数化设计语言(APDL),建立离子束作用下温度场模型,模拟离子束加工KDP晶体过程,并对不同工艺参数条件下工件的温度场进行仿真.分析了工艺参数对KDP晶体温升的影响规律,并通过正交分析方法优化了工艺参数.优化结果表明:从影响工件温度变化程度的角度,离子入射角度θ>入射离子能量ε>峰值束流密度J>扫描行间距系数μ>束流分布参数σ;从降低工件温升角度,应选取较小的入射离子能量和峰值束流密度以及较大的离子束径、扫描行间距系数和入射角度,减小离子束加工对工件性能的影响,同时加工时间增加不明显.

关键词: 离子束加工(IBF);温度场;KDP晶体;参数优化

中图分类号: