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人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (10): 2721-2727.

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旋转半径对KDP晶体生长过程影响的数值模拟研究

张小莉;程旻;康道远;杨森;刘希夏   

  1. 重庆大学动力工程学院,低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室,重庆400030
  • 出版日期:2015-10-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    中央高校基本科研业务费(CDJZR13140015)

Numerical Simulation Research of the Crystal Growth Process of KDP with Different Rotation Radius

ZHANG Xiao-li;CHENG Min;KANG Dao-yuan;YANG Sen;LIU Xi-xia   

  • Online:2015-10-15 Published:2021-01-20

摘要: 相比传统KDP晶体同心旋转的生长方式,本文利用数值模拟的方法,针对不同旋转半径和不同籽晶摆放方式对KDP晶体生长过程中溶液流动和物质输运的影响进行研究,以寻找提高晶体表面过饱和度及其均匀性的方法.计算结果表明:随着旋转半径从0 cm增大到3 cm,晶面时均过饱和度整体也逐渐增大,柱面平均均方差逐渐减小,锥面平均均方差先增大后减小;当晶体摆放方式采用棱边迎流时,晶体表面时均过饱和度相比柱面迎流略有下降,但其平均均方差最小,有利于减少包裹体的产生.

关键词: KDP晶体;数值模拟;旋转半径;表面过饱和度;均方差

中图分类号: