人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (11): 3103-3107.
张旺玺;梁宝岩;王艳芝;张艳丽;孙玉周;穆云超
ZHANG Wang-xi;LIANG Bao-yan;WANG Yan-zhi;ZHANG Yan-li;SUN Yu-zhou;MU Yun-chao
摘要: 利用高温反应烧结在不同结构碳材料表面热蒸发进行二氧化硅(SiO2)晶体的外延生长.采用X-射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和电子能谱仪(EDS)分析和研究了碳材料表面生成物的物相组成与显微形貌,探讨了SiO2晶体的外延生长机理.研究结果表明,不同结构碳材料表面能外延生长SiO2晶体,但形态不同.在碳纤维表面形成颗粒和短晶须状SiO2晶体,在石墨片上形成凸起团聚状SiO2晶体,而在金刚石表面首先形成了Si-O涂层,然后在Si-O涂层上生长棒状SiO2体.碳材料外延生长SiO2晶体是首先通过热蒸发法使Si沉积到碳材料表面,然后Si与体系中的O反应形成SiO2晶核,在不同结构碳材料表面生长SiO2晶体.
中图分类号: