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人工晶体学报 ›› 2015, Vol. 44 ›› Issue (12): 3433-3438.

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自支撑金刚石厚膜表面外延掺硼金刚石薄膜研究

魏俊俊;李成明;文星凯;张建军;刘金龙;陈良贤;黑立富   

  1. 北京科技大学材料技术研究院,北京,100083
  • 出版日期:2015-12-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(51272024);中央高校基本科研业务费(FRF-TP-14-094A2)

Homoepitaxy Growth of Boron Doped Diamond Film on Self-standing Diamond Film

WEI Jun-jun;LI Cheng-ming;WEN Xing-kai;ZHANG Jian-jun;LIU Jin-long;CHEN Liang-xian;HEI Li-fu   

  • Online:2015-12-15 Published:2021-01-20

摘要: 采用微波等离子体化学气相沉积技术(MPCVD),在抛光厚度0.5 mm的高热导率自支撑金刚石厚膜表面沉积厚度10 μm掺硼金刚石薄膜,通过热导率测试仪、扫描电子显微镜、激光拉曼光谱、X射线光电子能谱以及四探针仪等测试手段对材料的热导率、形貌及微观质量、表面键合状态及导电性能等进行分析.结果表明,优化工艺后在自支撑金刚石厚膜表面外延形成了质量优异,结合力佳的掺硼金刚石薄膜,其电阻率最低为1.7 ×102 Ω·cm.同时,鉴于界面同质外延特性以及大尺寸晶粒特点,整体材料的热导率可高达1750 W/(m·K),显示这种层状复合材料良好的整体导热性能及表面导电性能.

关键词: 自支撑金刚石厚膜;掺硼金刚石薄膜;同质外延;热导率;电导率

中图分类号: