基于蒙脱石和层状双氢氧化物纳米剥离的层层自组装异构薄膜制备

人工晶体学报 ›› 2016, Vol. 45 ›› Issue (5): 1293-1298.

基于蒙脱石和层状双氢氧化物纳米剥离的层层自组装异构薄膜制备

陈耀;谢裹漓;李存军;粱启超;林茵茵;王昕;朱文凤;王林江

桂林理工大学材料科学与工程学院,桂林,541004;桂林理工大学化学与生物工程学院,桂林,541004;桂林理工大学材料科学与工程学院,桂林541004;广西有色金属及特色材料加工省部共建国家重点实验室培育基地,桂林541004

出版日期:2016-05-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(41272064,41572034)

Preparation of Heterogeneous Films by Layer-by-layer Self-assembly Based on Exfoliation of Montmorillonite and Layered Double Hydroxide

Online:2016-05-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 以乙酸乙酯为剥离介质,采用超声法剥离有机蒙脱石(CTA-MMT)和层状双氢氧化物(MgAl-SDS-LDH),以聚乙烯醇(PVA)为交联剂,采用层层自组装(LBL)的方法制备了蒙脱石-层状双氢氧化物异构薄膜(PVA/MMT/PVA/LDH)n.采用X射线衍射分析(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见光分光光度计对样品进行了表征.结果表明,超声剥离处理后的CTA-MMT和MgAl-SDS-LDH片层厚度分别达到17 nm和12 nm.(PVA/MMT/PVA/LDH)n异构薄膜层间距为1.81 nm,一个组装循环得到以MMT和LDH纳米片层构成薄膜单循环片层,厚度约为170 nm.薄膜对264 nm左右的光呈现强烈的吸收带,并且吸收强度与薄膜厚度之间呈线性关系,表明薄膜单元层具有良好均一性.

中图分类号:

O484

陈耀;谢裹漓;李存军;粱启超;林茵茵;王昕;朱文凤;王林江. 基于蒙脱石和层状双氢氧化物纳米剥离的层层自组装异构薄膜制备[J]. 人工晶体学报, 2016, 45(5): 1293-1298.

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