真空中脉冲激光烧蚀制备银纳米晶粒在水平衬底上的分布特性

人工晶体学报 ›› 2019, Vol. 48 ›› Issue (1): 18-23.

真空中脉冲激光烧蚀制备银纳米晶粒在水平衬底上的分布特性

邓泽超;王旭;刘建东;孟旭东;丁学成;褚立志;王英龙

河北大学物理科学与技术学院,河北省光电信息材料重点实验室,新能源光电器件国家地方联合工程实验室,保定 071002

出版日期:2019-01-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
河北省自然科学基金(A2018201249);河北省研究生创新资助项目(CXZZBS2017024);河北大学自然科学研究计划项目(799207217042)

Distribution Characteristic of Ag Nanoparticles on the Horizontal Substrates during Pulsed Laser Ablation Process in Vacuum

DENG Ze-chao;WANG Xu;LIU Jian-dong;MENG Xu-dong;DING Xue-cheng;CHU Li-zhi;WANG Ying-long

Online:2019-01-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 在室温、真空环境中,通过XeCl准分子脉冲激光烧蚀银靶,烧蚀产物沉积在水平放置的Si(111)衬底上.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)仪、探针式表面轮廓(PTSP)仪和选区电子衍射(SAED)对沉积所得的样品进行表征.结果表明,样品主要由具有不同尺寸的银纳米晶粒组成;随着衬底与靶面水平距离的增加,样品厚度和晶粒尺寸逐渐减小;样品的(111)和(200)晶面的XRD特征谱线强度,随着衬底位置的改变而变化.在增加激光能量密度、衬底与烧蚀焦点垂直距离的情况下,晶粒尺寸及样品XRD特征谱线变化规律并未发生明显变化.结合银纳米晶粒传输特性和沉积样品沿不同晶面生长所需表面能的差异,对实验结果进行了分析.

中图分类号:

O469

邓泽超;王旭;刘建东;孟旭东;丁学成;褚立志;王英龙. 真空中脉冲激光烧蚀制备银纳米晶粒在水平衬底上的分布特性[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(1): 18-23.

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