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人工晶体学报 ›› 2019, Vol. 48 ›› Issue (8): 1430-1437.

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化学气相沉积(CVD)工艺对ZnS力学性能影响的研究

李冬旭;魏乃光;蒋立朋;黎建明;杨海;张鹏飞;牛延星;田智瑞;郭立;杨建纯;刘晓华   

  1. 有研科技集团有研国晶辉新材料有限公司,三河,065201
  • 出版日期:2019-08-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    军工资助项目

Effect of Chemical Vapor Deposition Process on Mechanical Properties of ZnS

LI Dong-xu;WEI Nai-guang;JIANG Li-peng;LI Jian-ming;YANG Hai;ZHANG Peng-fei;NIU Yan-xing;TIAN Zhi-rui;GUO Li;YANG Jian-chun;LIU Xiao-hua   

  • Online:2019-08-15 Published:2021-01-20

摘要: 介绍了化学气相沉积法(CVD)制备ZnS过程中,CVD工艺对材料相关力学性能的影响和控制方法.通过X射线衍射分析、扫描电镜和金相显微镜等手段研究了不同工艺下制备的ZnS样品材料的内部结构和缺陷,提出了ZnS生长过程中晶粒尺寸和材料缺陷的控制方法.研究结果表明,设计合理的喷嘴结构,营造稳定的CVD生长环境,提高CVD ZnS毛坯一致性,抑制材料缺陷形成,有助于提升ZnS材料力学相关性能.

关键词: 化学气相沉积法(CVD);晶粒尺寸;喷射结构;力学性能

中图分类号: