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人工晶体学报 ›› 2020, Vol. 49 ›› Issue (5): 804-810.

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硅晶体生长固液界面形貌研究

耿邦杰;左然   

  1. 江苏大学能源与动力工程学院,镇江,212013
  • 出版日期:2020-05-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(61474058)

Study on Solid-liquid Interface Morphology of Silicon Crystal Growth

GENG Bangjie;ZUO Ran   

  • Online:2020-05-15 Published:2021-01-20

摘要: 结合杰克逊界面理论、分子动力学模拟(MD)和密度泛函理论(DFT),对硅晶体(100)和(111)面生长过程中固液界面形貌进行研究,包括界面自由能变化、结构变化和生长位置吸附能等.通过杰克逊界面理论计算,发现(100)界面晶相原子和流体相原子在表面各占约50;时吉布斯自由能达到极小值,而(111)界面在表面占比约0;或100;时达到极小值,说明当热力学平衡时,(100)面趋向于粗糙面,(111)面趋向于光滑面;分子动力学模拟显示,随着生长的进行,初始光滑的固液界面在(100)面上会逐渐转变为粗糙界面,而(111)面则始终保持光滑界面生长;且在生长过程中,(100)面的生长速率明显高于(111)面,因为(100)面始终为粗糙面生长;DFT计算发现,(100)面上的所有生长位置吸附能接近,可以实现连续生长,(111)面吸附能则存在明显的差值,生长原子需要吸附在台阶处才能进行层状生长.

关键词: 晶体硅;固液界面形貌;杰克逊界面模型;分子动力学模拟;密度泛函理论

中图分类号: