镓源温度对LPCVD氧化镓外延温度场影响的仿真研究
胡继超, 赵启阳, 杨志昊, 杨莺, 彭博, 丁雄杰, 刘薇, 张红
Simulation Study on the Effect of Gallium Source Temperature on the Temperature Field in LPCVD Gallium Oxide Epitaxy
HU Jichao, ZHAO Qiyang, YANG Zhihao, YANG Ying, PENG Bo, DING Xiongjie, LIU Wei, ZHANG Hong
人工晶体学报
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2025, (3): 452
-461
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DOI: 10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2024.0305
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