MPCVD法纳米金刚石膜的制备及分析

人工晶体学报 ›› 2000, Vol. 29 ›› Issue (1): 54-58.

MPCVD法纳米金刚石膜的制备及分析

杨武保;吕反修;唐伟忠;佟玉梅;于文秀

北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083

出版日期:2000-01-15 发布日期:2021-01-20

Preparation and Characterization of Nanocrystalline Diamond Films by MPCVD Method

YANG Wu-bao;LU Fan-xiu;TANG Wei-zhong;TONG Yu-mei;YU Wen-xiu

Online:2000-01-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 利用MPCVD方法在玻璃基片上成功的制备了非常光滑、致密均匀的纳米金刚石膜.沉积工艺分为两步:成核,CH4/H2=3;;生长,O2/CH4/H2=0.3:3:100;沉积过程中保持工作压力为4.0kPa,衬底温度500℃.拉曼、透射电镜、红外光谱、表面轮廓仪等的测试表明:膜层由纳米级金刚石晶粒组成,最大晶粒尺寸小于100nm,成核密度大于1011/cm2.成核面晶粒的点阵常数较大,表明存在较多缺陷,表面粗糙度小于2nm,在可见光区完全透明,红外光学性能接近金刚石单晶理论值.

中图分类号:

O781

杨武保;吕反修;唐伟忠;佟玉梅;于文秀. MPCVD法纳米金刚石膜的制备及分析[J]. 人工晶体学报, 2000, 29(1): 54-58.

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