摘要: 本文首次采用透射电子显微术系统地研究了由FeNi触媒制备的金刚石单晶的微观结构,分析了人造金刚石中存在的晶体缺陷,探讨了这些晶体缺陷形成的原因。研究发现金刚石中存在层错、棱柱位错、位错列和位错网络等晶体缺陷。研究结果表明,金刚石中的晶体缺陷与金刚石的高温高压合成过程密不可分,主要起源于金刚石中大量过饱和的空位和微观杂质所引起的内应力。
中图分类号:
尹龙卫;李木森;陈芝;孙东升;董秀梅;郑培智. 静压触媒法制备的人造金刚石中的晶体缺陷[J]. 人工晶体学报, 2001, 30(1): 105-108.
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