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人工晶体学报 ›› 2001, Vol. 30 ›› Issue (4): 341-347.

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大尺寸光通讯磁光薄膜衬底钆镓石榴石(Gd3Ga5O12)单晶的生长研究

赵广军;李涛;徐军   

  1. 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 出版日期:2001-04-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    中国科学院资助项目;国家高技术研究发展计划(863计划)

Growth Investigations of Large Size Magneto-optic Film Substrate Gd3Ga5O12(GGG) Single Crystals for Optical Communications

  • Online:2001-04-15 Published:2021-01-20

摘要: 随着光纤通讯产业的迅猛发展,市场对3英寸光通讯磁光薄膜衬底钆镓石榴石(分子式为Gd3Ga5O12,简称GGG)的需求量急剧增加.本文从磁光薄膜(YIG以及类YIG)对其外延基底单晶GGG物化性能的要求出发,综述了在利用传统的提拉法生长大尺寸、符合磁光薄膜衬底要求的Gd3Ga5O12单晶的过程中,出现的诸如Ga2O3组分挥发,界面翻转,螺旋生长和晶体的开裂等问题,针对各个问题讨论了它们的形成机制并提出了它们的解决方法.最后,还根据目前磁光薄膜的发展情况,预见了纯GGG和掺质GGG单晶的研究和发展趋势.

关键词: YIG;GGG;螺旋生长;提拉法;组分挥发;界面翻转

中图分类号: