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人工晶体学报 ›› 2004, Vol. 33 ›› Issue (3): 335-338.

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6H-SiC单晶(0001)Si-面的表面生长形貌

韩荣江;王继扬;胡小波;董捷;李现祥;李娟;王丽;徐现刚;蒋民华   

  1. 山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100
  • 出版日期:2004-06-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家高技术研究发展计划(863计划)(2001AA311080);国家自然科学基金(60025409)

Surface Growth Morphology of (0001) Si-face of 6H-SiC Single Crystal

  • Online:2004-06-15 Published:2021-01-20

摘要: 利用光学显微镜的反射模式观察了升华法生长的6H-SiC单晶(0001)Si-面的生长形貌,应用台阶仪测定了生长台阶高度.实验发现,6H-SiC单晶的生长台阶呈螺旋状,生长台阶呈现出了韵律束合现象.在单晶中间部分,生长台阶稀疏,台面较宽,约80μm左右,台阶高度较小,约20~50nm,比较宽的台面上存在小生长螺旋.外围单晶区域,生长台阶比较密集,其台阶高度较大,约300~700nm,台面宽度较小,约2~5μm.生长台阶在前进过程中受单晶中的微管缺陷影响,在微管的附近出现弯曲.

关键词: 6H-SiC单晶;表面生长形貌;生长台阶;韵律束合现象

中图分类号: