蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究

人工晶体学报 ›› 2004, Vol. 33 ›› Issue (3): 441-447.

蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究

王银珍;周圣明;徐军

中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800

出版日期:2004-06-15 发布日期:2021-01-20

Research of Chemical Mechanical Polishing Technique of Sapphire Substrate

Online:2004-06-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响蓝宝石衬底化学机械抛光的因素,阐述了CMP的主要发展趋势:能定量确定最佳CMP工艺,系统地研究CMP工艺过程参数,建立完善的CMP理论模型,满足不同的工艺要求和应用领域,有效降低成本,提高产量.

中图分类号:

O786

王银珍;周圣明;徐军. 蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究[J]. 人工晶体学报, 2004, 33(3): 441-447.

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