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人工晶体学报 ›› 2004, Vol. 33 ›› Issue (6): 960-964.

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微晶硅薄膜纵向不均匀性的Raman光谱和AFM研究

张晓丹;赵颖;朱锋;魏长春;吴春亚;高艳涛;孙建;侯国付;耿新华;熊绍珍   

  1. 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071
  • 出版日期:2004-12-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家重点基础研究发展计划(973计划)(G2000028202,G2000028203);教育部科学技术研究项目(02167);国家自然科学基金(2002DFG00051);国家高技术研究发展计划(863计划)(2002303261)

Study of Vertical Non-uniformity of Microcrystalline Silicon Thin Film Using Raman Spectra and AFM

  • Online:2004-12-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文研究了采用VHF-PECVD技术制备的微晶硅薄膜的纵向均匀性.喇曼测试结果显示:微晶硅薄膜存在着生长方向的结构不均匀,随厚度的增加,材料的晶化率逐渐变大;不同衬底其非晶孵化点是不一样的,对于同一种衬底,绒度大相应的晶化率就大,对应着孵化层的厚度小;AFM测试结果明显的给出:材料的结构随厚度增加发生变化.

关键词: 甚高频等离子体增强化学气相沉积;纵向均匀性;微晶硅薄膜

中图分类号: