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人工晶体学报 ›› 2004, Vol. 33 ›› Issue (6): 974-977.

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纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究

闫鹏勋;吴志国;徐建伟;张玉娟;李鑫;张伟伟   

  1. 兰州大学等离子体与金属材料研究所,兰州,730000;兰州大学等离子体与金属材料研究所,兰州,730000;中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,兰州,730000
  • 出版日期:2004-12-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(10074022)

Investigation on the Nano-structure TiN Thin Film Prepared by Filtered Cathodic Arc Plasma

  • Online:2004-12-15 Published:2021-01-20

摘要: 利用自行研制的磁过滤等离子体设备,在室温条件下的不锈钢基底上成功地制备了性能良好的纳米结构TiN薄膜.运用原子力显微镜和X射线衍射仪对其结构和形貌进行了表征.利用纳米硬度仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量.结果显示:沉积的TiN薄膜表面非常平整光滑,致密而无缺陷;硬度远高于粗晶TiN的硬度;TiN晶粒尺寸在30~50nm;沉积过程中在基底上施加的负偏压会影响纳米结构TiN薄膜的结构和性能.

关键词: 纳米结构氮化钛;薄膜;等离子体

中图分类号: