人工晶体学报 ›› 2005, Vol. 34 ›› Issue (1): 120-123.
姚琲;李春艳;张长亮;薛涛;桑梅;王慧
YAO Pei;LI Chun-yan;ZHANG Chang-liang;XUE Tao;SANG Mei;WANG Hui
摘要: 采用电脉冲极化方法制作出周期性反转电畴微结构.利用热腐蚀法制备出用于环境扫描电镜(ESEM)研究反转电畴结构的样品.通过ESEM的观察与分析,在光栅电极下方,铁电畴发生了极化反转,反转区域在y方向上有所扩展,在Z方向逐渐变窄,没能贯穿整个晶片.通过控制光栅电极的纵宽比和电压脉冲的参数,可以在晶片的表面或一定深度得到占空比为1:1的正、负铁电畴交替排列的结构,达到准相位配的目的.观测到竹叶状二次电子图像衬度,它是由制样过程中局部产生应力造成的,这说明利用ESEM可以研究压电材料中的电荷分布.
中图分类号: