DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究

人工晶体学报 ›› 2005, Vol. 34 ›› Issue (1): 21-24.

DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究

周祖源;陈广超;周有良;吕反修;唐伟忠;李成明;宋建华;佟玉梅

北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083

出版日期:2005-02-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家高技术研究发展计划(863计划)(2002AA305508);教育部留学回国人员科研启动基金;北京市科技新星计划项目

Controlling Deposition and Roughness of Free-standing Diamond Film Deposited by DC Plasma Jet CVD

ZHOU Zu-yuan;CHEN Guang-chao;ZHOU You-liang;LU Fan-xiu;TANG Wei-zhong;LI Cheng-ming;SONG Jian-hua;TONG Yu-mei

Online:2005-02-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 在100kW级DC Plasma Jet CVD设备上,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在Mo衬底上获得不同占优晶面和应力状态的膜体结构.研究表明:不同取向的晶面在膜体中的分布不同,但各晶面随沉积温度的变化规律是相似的,在900℃左右容易获得较大的(220)晶面占优的膜体结构;薄膜的内应力沿晶体生长方向逐渐减小,且随沉积温度或甲烷浓度的增大而增大;具有高取向度的膜体将获得较为平整的表面.

中图分类号:

O484

周祖源;陈广超;周有良;吕反修;唐伟忠;李成明;宋建华;佟玉梅. DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究[J]. 人工晶体学报, 2005, 34(1): 21-24.

ZHOU Zu-yuan;CHEN Guang-chao;ZHOU You-liang;LU Fan-xiu;TANG Wei-zhong;LI Cheng-ming;SONG Jian-hua;TONG Yu-mei. Controlling Deposition and Roughness of Free-standing Diamond Film Deposited by DC Plasma Jet CVD[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2005, 34(1): 21-24.

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