摘要： 本文采用有限元法对勾形磁场的分布进行了模拟分析,结果表明磁场强度径向分量Bx随径向距离r增大可视为线性增大,并且在线圈中心面上下20mm靠近坩埚内壁的窄小区域内最强.通过对磁场强度的影响因素的分析表明,磁场Bx随电流增大呈线性增加,并随匝数增加呈非线性增大.最后依据模拟结果及其分析,取得了磁场的设计参数.
中图分类号:
安涛;高勇;马剑平;李守智;李留臣. 单晶炉勾形磁场的优化设计与分析[J]. 人工晶体学报, 2005, 34(2): 292-296.
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