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人工晶体学报 ›› 2005, Vol. 34 ›› Issue (5): 954-959.

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不锈钢衬底的抛光处理对碳纳米管薄膜场发射性能的影响

樊志琴;朱庆芳;杨仕娥;姚宁;鲁占灵;张兵临   

  1. 河南工业大学数理系,郑州,450052;郑州大学材料物理教育部重点实验室,郑州,450052
  • 发布日期:2021-01-20

Influence of Polishing Process of Stainless Steel Substrates on Field Emission Properties of Carbon Nanotube Films

FAN Zhi-qin;ZHU Qing-fang;YANG Shi-e;YAO Ning;LU Zhan-ling;ZHANG Bing-lin   

  • Published:2021-01-20

摘要: 在抛光的和未抛光的不锈钢衬底上,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法从甲烷和氢气的混合气体中沉积碳纳米管薄膜,并对其场发射性能进行了研究.实验发现,不锈钢衬底的机械抛光能降低碳纳米管膜的开启场强,增大它的发射电流密度.在同一场强7.5 V/μm下,衬底未抛光样品的电流密度为2.9 mA/cm2,而衬底抛光样品的电流密度达到5.5 mA/cm2.低开启场强和大发射电流密度意味着β增大,说明机械抛光能使碳纳米管膜的β增大.

关键词: 碳纳米管膜;场发射;MPCVD;拉曼光谱

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