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人工晶体学报 ›› 2006, Vol. 35 ›› Issue (1): 127-130.

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高质量非晶金刚石薄膜的制备研究

闫鹏勋;李晓春;李春;崇二敏;刘洋;李鑫;徐建伟   

  1. 兰州大学等离子体与金属材料研究所,兰州,730000
  • 出版日期:2006-02-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    中国科学院资助项目(10074022);教育部优秀青年教师资助项目

Investigation on the Preparation of High Quality Amorphous Diamond Films

YAN Peng-xun;LI Xiao-chun;LI Chun;CHONG Er-min;LIU Yang;LI Xin;XU Jian-wei   

  • Online:2006-02-15 Published:2021-01-20

摘要: 利用自行研制的磁过滤等离子体技术(FCAP),并创造性地对衬底施加低频率周期性负偏压,在室温下的单晶硅表面上制备了高质量的非晶金刚石薄膜.用扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM),红外吸收光谱(IR),纳米硬度计和摩擦试验仪对制备的非晶金刚石薄膜进行了结构和性能表征.实验结果表明:制备的非晶金刚石薄膜表面十分光滑,表面粗糙度仅为0.1nm;薄膜中sp3键成份高达70.7;,对应薄膜硬度达到74.8GPa,接近金刚石的硬度;薄膜摩擦系数在0.12~0.16之间.文中也讨论了偏压类型对沉积薄膜结构的影响.

关键词: 磁过滤等离子体;非晶金刚石膜;周期性偏压;性能

中图分类号: