不同衬底温度下ZnO外延薄膜的结构及光学特性分析

人工晶体学报 ›› 2006, Vol. 35 ›› Issue (5): 1118-1122.

不同衬底温度下ZnO外延薄膜的结构及光学特性分析

张子生;尹志会;许贺菊;贾亮;于威;傅广生

河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;衡水学院,衡水,053000

出版日期:2006-10-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
河北省自然科学基金(E2006001006)

Analysis of the Structure and Optical Properties of Epitaxial ZnO Films at Different Substrate Temperatures

ZHANG Zi-sheng;YIN Zhi-hui;XU He-ju;JIA Liang;YU Wei;FU Guang-sheng

Online:2006-10-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用螺旋波等离子体辅助射频溅射沉积技术在Al2O3(0001)衬底上沉积ZnO外延薄膜,通过对其结构及光学性质的分析,探讨了衬底温度对薄膜生长特性的影响.实验结果表明,由于等离子体对反应气体的活化及载能粒子对表面反应的辅助作用,采用该等离子体辅助溅射技术能够在较低的衬底温度下实现较高质量的ZnO薄膜外延生长,然而,较高的衬底温度所引起的表面反应不利于薄膜中的氧空位及锌填隙等缺陷的减少,这将限制薄膜的外延质量及光学特性的进一步提高.

中图分类号:

O484

张子生;尹志会;许贺菊;贾亮;于威;傅广生. 不同衬底温度下ZnO外延薄膜的结构及光学特性分析[J]. 人工晶体学报, 2006, 35(5): 1118-1122.

ZHANG Zi-sheng;YIN Zhi-hui;XU He-ju;JIA Liang;YU Wei;FU Guang-sheng. Analysis of the Structure and Optical Properties of Epitaxial ZnO Films at Different Substrate Temperatures[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2006, 35(5): 1118-1122.

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