溅射气压对镍铁氧化物催化薄膜在碱性溶液中析氧特性影响的研究

人工晶体学报 ›› 2006, Vol. 35 ›› Issue (6): 1301-1306.

溅射气压对镍铁氧化物催化薄膜在碱性溶液中析氧特性影响的研究

张庆宝;薛俊明;宋红;孙建;耿新华

南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071;光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071

出版日期:2006-12-15 发布日期:2021-01-20

Research of Oxygen Evolution Character of Iron-doped Nickel Oxide Catalysis Films in Alkaline Solution at Different Sputtering Pressure

ZHANG Qing-bao;XUE Jun-ming;SONG Hong;SUN Jian;GENG Xin-hua

Online:2006-12-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用对靶直流磁控溅射设备制备镍铁氧化物催化薄膜,研究了溅射气压与催化薄膜的结构、表面形貌、过电位、电阻率及生长速率之间的关系.实验结果显示在溅射气压从0.5Pa到4.0Pa的范围内变化时,随溅射气压升高,材料晶化率降低,生长速率下降,过电位和电阻率都是先减小再增大;对用不同铁含量的镍铁合金靶制备的催化薄膜的极化特性比较发现,靶材中铁的含量越多过电位越小.

中图分类号:

O484

张庆宝;薛俊明;宋红;孙建;耿新华. 溅射气压对镍铁氧化物催化薄膜在碱性溶液中析氧特性影响的研究[J]. 人工晶体学报, 2006, 35(6): 1301-1306.

ZHANG Qing-bao;XUE Jun-ming;SONG Hong;SUN Jian;GENG Xin-hua. Research of Oxygen Evolution Character of Iron-doped Nickel Oxide Catalysis Films in Alkaline Solution at Different Sputtering Pressure[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2006, 35(6): 1301-1306.

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