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人工晶体学报 ›› 2007, Vol. 36 ›› Issue (6): 1330-1333.

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真空蒸发法制备ZnSe薄膜的X射线光电子能谱研究

余晓艳;马鸿文   

  1. 中国地质大学(北京)珠宝学院,北京,100083;中国地质大学(北京)矿物岩石材料开发应用国家专业实验室,北京,100083;中国地质大学(北京)材料科学与技术学院,北京,100083;中国地质大学(北京)矿物岩石材料开发应用国家专业实验室,北京,100083
  • 出版日期:2007-12-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家自然科学基金(40472051);中国地质大学(北京)矿物岩石材料开发应用国家专业实验室开放研究基金(6001)

Study on XPS of Zinc Selenide Thin Films by Vacuum Evaporation

YU Xiao-yan;MA Hong-wen   

  • Online:2007-12-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文用真空蒸发法制备了CIS太阳能电池中做缓冲材料的ZnSe薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)对制备薄膜的表面化学状态及沉积质量进行了研究,并用氩离子溅射进行剥蚀,逐层分析薄膜的化合态随深度的变化关系.XPS分析表明,ZnSe薄膜含有Zn、Se、O、C等元素,其中O、C为样品置于空气中所致,含量随剥蚀深度的加大而逐渐降低.Zn的光电子峰为Zn2p1/2和Zn2p3/2,Zn2p3/2的电子结合能为1021.90eV,对应着Zn2+的化合态,表明薄膜中zn以形式电荷为Zn2+的化合态形式存在;Se的光电子峰为Se3d,其电子结合能为54.30eV,对应着Se2-的化合态,表明薄膜中Se以形式电荷Se2-的化合态形式存在.分别经过1min、3min、7min、11min的剥蚀后,Zn和Se的光电子峰几乎没有改变,表明沉积的ZnSe薄膜表面和内部化学状态稳定一致.

关键词: 真空蒸发法;ZnSe薄膜;XPS分析;界面氧化状态

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