热丝法低温制备多晶硅薄膜微结构的研究

人工晶体学报 ›› 2007, Vol. 36 ›› Issue (6): 1372-1376.

热丝法低温制备多晶硅薄膜微结构的研究

王丽春;张贵锋;侯晓多;姜辛

大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性国家重点实验室,大连,116024

出版日期:2007-12-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
教育部留学回国人员科研启动基金(082038)

Microstructure of Poly-Si Thin Films Prepared by Hot-filament Chemical Vapor Deposition at Low-temperature

WANG Li-chun;ZHANG Gui-feng;HOU Xiao-duo;JIANG Xin

Online:2007-12-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜.利用XRD、拉曼光谱和原子力显微镜(AFM)研究了灯丝与衬底间距(5～10mm),灯丝温度(1800～1400℃)和衬底温度(320～205℃)对薄膜晶体取向、晶化率、晶粒尺寸以及形貌的影响规律.结果表明,随着热丝与衬底间距增加,多晶硅薄膜的晶化率和晶粒尺寸明显减小;随热丝温度的降低,薄膜的晶化率都出现了大致相同的规律:先不断增大后突然大幅减小.

中图分类号:

TB43

王丽春;张贵锋;侯晓多;姜辛. 热丝法低温制备多晶硅薄膜微结构的研究[J]. 人工晶体学报, 2007, 36(6): 1372-1376.

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