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人工晶体学报 ›› 2008, Vol. 37 ›› Issue (3): 631-633.

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绒面结构ZnO薄膜及其表面处理

陈新亮;薛俊明;张德坤;蔡宁;张晓丹;赵颖;耿新华   

  1. 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津300071
  • 出版日期:2008-06-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    国家重点基础研究发展计划(973计划)(2006CB202602;2006CB202603);天津市科技攻关项目(06YFGZGX02100);天津市自然科学基金(05YFJMJC01600;06YFJZJC01700);国家博士科研启动项目(J02048)

Textured ZnO Thin Film and Its Surface Treatment

CHEN Xin-liang;XUE Jun-ming;ZHANG De-kun;CAI Ning;ZHANG Xiao-dan;ZHAO Ying;GENG Xin-hua   

  • Online:2008-06-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文制备出(110)峰取向的绒面结构MOCVD-ZnO:B薄膜并提出CH3COOH湿法刻蚀的表面处理技术.研究表明,绒面结构ZnO:B薄膜具有"类金字塔"晶粒形状;处理前后ZnO:B薄膜的微观结构,方块电阻和光学性能变化不大.适当的表面处理有助于使薄膜表面趋于柔和,有望改善ZnO/Si界面特性,从而应用于μc-Si薄膜太阳电池.

关键词: MOCVD;绒面ZnO薄膜;湿法刻蚀;太阳电池

中图分类号: