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人工晶体学报 ›› 2008, Vol. 37 ›› Issue (5): 1237-1241.

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制备工艺对P型ZnO薄膜微观结构和电学特性的影响

丁瑞钦;陈毅湛;朱慧群;黎扬钢;丁晓贵;杨柳;黄鑫钿;齐德备;谭军   

  1. 五邑大学薄膜与纳米材料研究所,江门,529020;五邑大学数理系,江门,529020;五邑大学信息学院,江门,529020;五邑大学机电系,江门,529020
  • 出版日期:2008-10-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    广东省自然科学基金(04011770);广东省江门市科技攻关项目(江财企[2004]59号)

Influences of Preparation Techniques on the Microstructure and Electric Characteristics of p-ZnO Thin Films

DING Rui-qin;CHEN Yi-zhan;ZHU Hui-qun;LI Yang-gang;DING Xiao-gui;YANG Liu;HUANG Xin-dian;QI De-bei;TAN Jun   

  • Online:2008-10-15 Published:2021-01-20

摘要: 本文报道溅射工艺、退火工艺和冷却方式对磷扩散法制备的P型ZnO薄膜的微观结构和电学特性的影响的实验研究.研究结果表明,ZnO薄膜的表面形貌、结晶度、内应力以及电学特性均与制备工艺条件有密切的关系.文章对这些关系的机理做了探讨和分析.

关键词: ZnO薄膜;工艺条件;微观结构;电学特性

中图分类号: