大面积自支撑CVD金刚石厚膜的应力研究

人工晶体学报 ›› 2008, Vol. 37 ›› Issue (6): 1444-1447.

大面积自支撑CVD金刚石厚膜的应力研究

卢文壮;左敦稳;徐锋;王珉

南京航空航天大学机电学院,南京,210016;江苏省精密与微细制造技术重点实验室,南京,210016;南京航空航天大学机电学院,南京,210016

出版日期:2008-12-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
国家自然科学基金(50605032);江苏省自然科学基金(BK2006189;BK2007193);江苏省精密与微细制造技术重点实验室资助项目(JSPM200705)

Stress in Large Area Free-standing CVD Diamond Thick Film by X-ray Diffraction Analysis

LU Wen-zhuang;ZUO Dun-wen;XU Feng;WANG Min

Online:2008-12-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 在HFCVD系统中制备了直径为φ100 mm的自支撑CVD金刚石厚膜,利用XRD研究了自支撑CVD金刚石厚膜的应力.结果显示制备的大面积自支撑CVD金刚石厚膜处于较低的应力水平,应力分布较均匀,生长面应力状态为压应力,成核面应力状态为张应力.

中图分类号:

TG115

卢文壮;左敦稳;徐锋;王珉. 大面积自支撑CVD金刚石厚膜的应力研究[J]. 人工晶体学报, 2008, 37(6): 1444-1447.

LU Wen-zhuang;ZUO Dun-wen;XU Feng;WANG Min. Stress in Large Area Free-standing CVD Diamond Thick Film by X-ray Diffraction Analysis[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2008, 37(6): 1444-1447.

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大面积自支撑CVD金刚石厚膜的应力研究

Stress in Large Area Free-standing CVD Diamond Thick Film by X-ray Diffraction Analysis

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