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人工晶体学报 ›› 2008, Vol. 37 ›› Issue (6): 1476-1483.

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乙醇溶液中电沉积CuInSe2(CIS)薄膜过程研究

龙飞;杜晶晶;邹正光   

  1. 桂林工学院有色金属材料及其加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004;武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070;桂林工学院有色金属材料及其加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004
  • 出版日期:2008-12-15 发布日期:2021-01-20
  • 基金资助:
    广西自然科学基金(0542013)

Study of CuInSe2(CIS)Films Using Electrodeposition in Alcohol Solution

LONG Fei;DU Jing-jing;ZOU Zheng-guang   

  • Online:2008-12-15 Published:2021-01-20

摘要: 采用三电极体系,以钼片为工作电极,大面积铂网为辅助电极,饱和甘汞电极(SCE)为参比电极,以氯化铜、氯化铟、亚硒酸为原料,在无水乙醇溶液中,用阴极恒流和恒压两种沉积方法制备出CIS前驱体薄膜,采用XRD和EDAX对制备的薄膜进行了表征,分析了沉积方式、镀液离子浓度、导电盐(LiCl)含量及热处理工艺等因素对薄膜成分及形貌的影响,并对电沉积CIS薄膜的机理进行了初步探讨.在最优条件下所制备的薄膜成分接近标准比且表面致密、均匀.

关键词: 电沉积;CIS薄膜;电流密度;沉积电压

中图分类号: