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人工晶体学报 ›› 2009, Vol. 38 ›› Issue (3): 642-647.
杨春;卢文壮;左敦稳;徐锋;任卫涛
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RSS出版日期:2009-06-15
发布日期:2021-01-20
基金资助:YANG Chun;LU Wen-zhuang;ZUO Dun-wen;XU Feng;REN Wei-tao
Online:2009-06-15
Published:2021-01-20
摘要： 本文设计了一套用于HFCVD系统中轴承内圈NCD涂层制备的电极装置,同时在热交换过程的分析基础上对该系统进行了热流耦合分析.对进气参数进行优化后,衬底温度场及气体流场分布均匀.在数值分析的基础上,在氮化硅陶瓷内圈上成功制备了NCD膜.
中图分类号:
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YANG Chun;LU Wen-zhuang;ZUO Dun-wen;XU Feng;REN Wei-tao. Heat-flux Coupling Simulation during the Process of Growing NCD Film on Si3N4 Bearing Inner Ring[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2009, 38(3): 642-647.
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