无压烧结制备透辉石/AlTiB增韧补强氧化铝基结构陶瓷材料

人工晶体学报 ›› 2009, Vol. 38 ›› Issue (3): 777-781.

无压烧结制备透辉石/AlTiB增韧补强氧化铝基结构陶瓷材料

刘长霞;孙军龙;张希华;王保卫

鲁东大学先进制造与自动化技术重点实验室,烟台,264025;山东大学组织工程研究所,济南,250061

出版日期:2009-06-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
鲁东大学引进人才基金(LY20074303;LY20074302);山东省自然科学基金(Y2007F29)

Fabrication of Diopside/AlTiB Toughened and Reinforced Alumina Matrix Structural Ceramic Materials by Non-pressure Sintering Process

LIU Chang-xia;SUN Jun-long;ZHANG Xi-hua;WANG Bao-wei

Online:2009-06-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 采用温度梯度无压烧结工艺制备了透辉石/AlTiB增韧补强Al2O3基结构陶瓷材料,探讨了其致密化烧结特性,并对其力学性能进行了测试和分析.研究了透辉石/AlTiB增韧补强Al2O3基结构陶瓷材料的微观结构,并分析了其力学性能和微观结构与透辉石含量的关系.结果表明:与纯Al2O3相比,透辉石/AlTiB增韧补强Al2O3基结构陶瓷材料的力学性能得到明显提高,其中添加6;(体积百分含量,下同)透辉石和4;AlTiB的Al2O3基结构陶瓷材料获得较好的综合力学性能,其硬度、抗弯强度和断裂韧性分别达到16.02 GPa、370 MPa和5.11 MPa·m1/2.力学性能提高的主要原因为:添加相与Al2O3基体之间界面反应的发生以及透辉石和AlTiB对复合材料的协同晶粒细化效应.

中图分类号:

O484

刘长霞;孙军龙;张希华;王保卫. 无压烧结制备透辉石/AlTiB增韧补强氧化铝基结构陶瓷材料[J]. 人工晶体学报, 2009, 38(3): 777-781.

LIU Chang-xia;SUN Jun-long;ZHANG Xi-hua;WANG Bao-wei. Fabrication of Diopside/AlTiB Toughened and Reinforced Alumina Matrix Structural Ceramic Materials by Non-pressure Sintering Process[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2009, 38(3): 777-781.

[1]	石博元, 张芩宇, 姜宏, 文峰, 马艳平. 高硼硅玻璃薄膜的磁控溅射沉积及性能研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(12): 2371-2375.
[2]	沈波;杨学林;许福军. 氮化物宽禁带半导体的MOCVD大失配异质外延[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(11): 1953-1969.
[3]	王珣;汪莱;郝智彪;罗毅;孙长征;韩彦军;熊兵;王健;李洪涛. GaN基三维结构生长与器件应用[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(11): 1984-1995.
[4]	王瑞;孙宜华;黄龙;敖来远;方亮;骆秋子. Ti含量对溶胶-凝胶法制备Ti、Ga共掺ZnO薄膜性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(10): 1800-1806.
[5]	王心洋;曹光宇;黄翀. 微波等离子体化学气相沉积设备微波系统的仿真优化与验证[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(10): 1896-1903.
[6]	李若楠;边慧敏;张凯;李朋;李玉平;韩培德. 大面积垂直取向介孔二氧化硅薄膜的制备及性能研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(7): 1236-1241.
[7]	上官旻杰;赵青南;林鸿剑;董玉红;赵杰. Low-E/VO2复合镀膜玻璃的制备与性能研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(4): 716-723.
[8]	景宝堂;钟敏;袁文宾;张宇峰. 气相输运沉积制备化合物薄膜材料的研究进展[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(2): 358-362.
[9]	郭聪;张丹;刘华一;徐海峰;刘雨桐;付跃举. PVDF薄膜铁电性能的调控研究[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(1): 39-43.
[10]	代清平;吴冬妮;韦俊;吕兵;邓朝勇. 压电层体积分数对BTO基复合薄膜磁电性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(1): 44-49.
[11]	黄奕博;王美涵;文哲;马佳玉;张钧;侯朝霞. 纳米结构WO3/TiO2复合薄膜的制备及应用进展[J]. 人工晶体学报, 2020, 49(1): 144-151.
[12]	熊芬;姜思宇;吴隽;耿仁杰;郭才胜;祝柏林;姚亚刚;刘静. 95;Ar+5;H2气氛退火对Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2薄膜形貌和结构的影响[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(12): 2186-2193.
[13]	杨松;郭凯鑫;张敏;邓朝勇;王旭. La掺杂BiFeO3薄膜铁电及光学性能研究[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(8): 1445-1450.
[14]	闫刚印. 不同膜厚对SiO2光子晶体形貌及光学性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(7): 1281-1286.
[15]	熊智慧;肖飞;杨辉;张敏;曾体贤. CdSe纳米晶薄膜的光敏特性研究[J]. 人工晶体学报, 2019, 48(4): 567-571.